Tipo di tesi | Tesi di laurea magistrale | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Autore | GIORDANO, GAETANO | ||||||||||||||||||||||||||||||
URN | etd-03142018-134957 | ||||||||||||||||||||||||||||||
Titolo | Light-Matter Interaction in photoresist for EUV Lithography | ||||||||||||||||||||||||||||||
Titolo in inglese | Interazione luce-materia nei photoresist per la litografia EUV | ||||||||||||||||||||||||||||||
Struttura | Dipartimento di Ingegneria "Enzo Ferrari" | ||||||||||||||||||||||||||||||
Corso di studi | Ingegneria Dei Materiali (D.M.270/04) | ||||||||||||||||||||||||||||||
Commissione |
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Parole chiave |
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Data inizio appello | 2018-04-12 | ||||||||||||||||||||||||||||||
Disponibilità | Accesso limitato: si può decidere quali file della tesi rendere accessibili. Disponibilità mixed (scegli questa opzione se vuoi rendere inaccessibili tutti i file della tesi o parte di essi) | ||||||||||||||||||||||||||||||
Data di rilascio | 2058-04-12 | ||||||||||||||||||||||||||||||
Riassunto analitico
The aim of this thesis is to develop new techniques to analyze the electrons generated by light-matter interaction between photoresist and Extreme Ultra Violet (EUV) radiation during EUV lithography process. The electrons distribution in solid materials aggregated (in the absence of external excitation), is explained using the band theory. Under EUV excitation, an electron can be moved from the equilibrium position to the vacuum (Photoemission theory). Total Electron Yield (TEY) and n(E) measurements can be performed to characterize the emitted electrons from the surface of photoresist excited with EUV light. TEY measurement results provide the number of emitted electrons per incident photons. N(E) is the kinetic energy distribution of the emitted electrons. |
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Abstract | |||||||||||||||||||||||||||||||
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